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  • 反応性イオンエッチング（RIE）
    反応性イオンエッチング、いわゆるRIEとよばれるエッチング方法について説明しています。様々なサイトや本で詳しく説明されているのですが様々な物質やガス、膜の種類によって反応がことなることから、仕組みを理解するのに苦労することが多い技術です。ここではこの技術の概要をイメージしやすい様に汎用的に説明しています。
  • マグネトロンスパッタ
    通常のスパッタリングの効率と速度を改善したスパッタ方法にマグネトロンスパッタと呼ばれるものがあります。これは磁力を利用してプラズマを一定の範囲に閉じ込めることで密度を高くする方法です。このマグネトロンスパッタの仕組みについて出来るだけ分かりやすく説明しています。
  • スパッタリングの基礎
    パッタリングは何のために利用される技術なのか。それは様々なものへ薄い膜を作るために利用されています。通常のメッキ等よりもより均一に純度の高い膜をつくる、また通常メッキの材料として使用できない絶縁物等でも膜をつくることができます。その仕組みを分かりやすく説明しています。
  • EXCELを用いたスミスチャートの書き方
    スミスチャートは知っているけどいざ描いてみたいとなったときEXCELで描画したい人は多いと思います。そこで実際にどのような手順で描画するかをご紹介します。
  • 表皮効果
    表皮効果とはどのようなものかその概要から、表皮効果の発生する仕組みを説明しています。また表皮効果で用いる表皮深さの計算方法も説明しています。
  • 高周波利用設備の申請先
    高周波利用設備に関する申請を行おうとしてもどこに提出すればよいか、わからない。また総務省の総合通信局へ提出することは知っているが、使用する場所がどの総合通信局が管轄区域なのかよくわからないこと耳にします。そこで簡単一覧を記載しておきます。
  • 高周波利用設備設置等のための手続き
    高周波利用設備とは10kHz以上の高周波電流を使用する通信設備及びや10KHz高周波電流を利用したその他の設備のことです。これを利用するには電波法よって申請が必要です。その内容について紹介しています。
  • 電力の反射波と反射係数
    電力の反射または反射波とよばれますが、これが発生する理由を分かりやすく説明しています。また反射係数の導き方の計算の基礎的な内容にも少しですが触れています。
  • コンデンサのリアクタンス
    コンデンサによって電流が電圧よりも進む現象が発生するのですが、この計算についてキャパシタンス、リアクタンスの基本的な意味と考え方を交え説明しています。
  • コイルのリアクタンス
    コイルによって電流が電圧よりも遅れる現象が発生するのですが、この計算についてインダクタンス、リアクタンスの基本的な意味と考え方を交え説明しています。